| 품명 | Tetramethyl Ammonium Hydroxide |
|---|---|
| 제품명 | TMAH 20% / 24.9% |
| CAS | 75-59-2 |
| PACKING | Drum/IBC/Bulk |
Tetramethyl Ammonium Hydroxide는 강한 알칼리성 수용액으로, 반도체 제조 공정에서 특히 포토레지스트 현상액의 주성분으로 매우 광범위하게 사용되는 핵심 화학 물질
|
산업 분야 |
사용 예시 |
|
현상액 |
▶ Photoresist Developer목적의 2.38% 수용액, 초미세 패턴 용 특수 현상액 |
|
세정제 |
▶ Post-Etch Residue제거, Particle 제거 |
|
pH 조절제 |
▶ 반도체 공정 용액의 pH를 알카리성 영역으로 정밀 조정(현상액, 세정액 등) |
|
재료 특징 |
▶ 강알카리성, 금속 부식성, 환경 규제 물질 |